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自動(dòng)銨離子測(cè)量裝置AMNA-101

產(chǎn)品大圖
  • 自動(dòng)銨離子測(cè)量裝置AMNA-101
  • HORIBA堀場(chǎng)
  • AMNA-101
  • 日本
  • 電議
  • 更多詳細(xì)資料請(qǐng)來(lái)電咨詢!

產(chǎn)品詳細(xì)介紹

 

仕様

項(xiàng)目

仕様

 

形式

AMNA-101(連続測(cè)定法)

AMNA-102(間欠測(cè)定法)

測(cè)定範(fàn)囲

0.01 ?1.0、(0.03 以下は無(wú)目盛)0.1 ?10、0.5 ?50、
1 ?100、5 ?500、10 ?1000
●各レンジのいずれかをご指定ください。
●単位は、ppmNH4+ またはppmN/NH4+ のいずれか。

0.5 ?50、1 ?100、5 ?500、10 ?1000 
●各レンジのいずれかをご指定ください。
●単位は、ppmNH4+ またはppmN/NH4+ のいずれか。

測(cè)定方式

連続測(cè)定

間欠測(cè)定
測(cè)定周期:1、 2、4、6、8、12、24H、EXT.START のうち任意設(shè)定可能

再現(xiàn)性

フルスケール長(zhǎng)の± 3 %
(ただし、0.1 ppmNH4+ 以上の標(biāo)準(zhǔn)液で一定溫度にて)

フルスケール長(zhǎng)の± 3 %(標(biāo)準(zhǔn)液で一定溫度にて)

安定性

フルスケール長(zhǎng)の± 4 % /day
(ただし、0.1 ppm 以上の標(biāo)準(zhǔn)液で一定溫度にて)

フルスケール長(zhǎng)の± 4 % /day(標(biāo)準(zhǔn)液で一定溫度にて)

応答速度

90 %応答:約5 分
(ただし、校正時(shí)1 ppm 以上の標(biāo)準(zhǔn)液にて、低濃度から高濃度へ1 decade 変化させた場(chǎng)合)

90 %応答:約5 分
(ただし、校正時(shí)1 ppm 以上の標(biāo)準(zhǔn)液にて、低濃度から高濃度へ1 decade 変化させた場(chǎng)合)

自動(dòng)校正

校正方法:試料水濃度付近で1 點(diǎn)校正
校正周期:2、4、6、8、12、24H EXT.START のうち任意設(shè)定可能
校正時(shí)間:40 分間
校正時(shí)の指示:校正直前の測(cè)定値をホールド
校正液タンク:20 L
校正液補(bǔ)充周期:3 週間(ただし、校正周期12 時(shí)間において)

校正方法:試料水濃度付近で1 點(diǎn)校正
校正周期:2、4、6、8、12、24H EXT.START のうち任意設(shè)定可能
校正時(shí)間:1 時(shí)間
校正時(shí)の指示:校正直前の測(cè)定値をホールド
校正液タンク:20 L
校正液補(bǔ)充周期:3 週間(ただし、校正周期12 時(shí)間において)

自動(dòng)洗浄

洗浄方法:酸洗浄
洗浄周期:2、4、6、8、12、24H EXT.START のうち任意設(shè)定可能
洗浄時(shí)間:40 分間
洗浄時(shí)の指示:洗浄直前の測(cè)定値をホールド
洗浄液タンク:20 L
洗浄液補(bǔ)充周期:3 ヶ月(ただし、校正周期12 時(shí)間において)

洗浄方法:酸洗浄
洗浄周期:測(cè)定毎
洗浄時(shí)間:30 分
洗浄時(shí)の指示:洗浄直前の測(cè)定値をホールド
洗浄液タンク:20 L
洗浄液補(bǔ)充周期:2 週間(ただし、測(cè)定周期1 時(shí)間において)

pH 調(diào)整液

液組成:2 mol/L 水酸化カリウム
pH 調(diào)整液タンク:20 L
pH 調(diào)整液補(bǔ)充周期:3 週間

液組成:2 mol/L 水酸化カリウム
pH 調(diào)整液タンク:20 L
pH 調(diào)整液補(bǔ)充周期:1 ヶ月(ただし、測(cè)定周期1 時(shí)間において)

警報(bào)

操作部パネルに表示  
①濃度上限?、谠嚵纤?dāng)唷、坌U荒堋?br style="margin: 0px; padding: 0px;" /> ④ pH 調(diào)整液不足 ⑤校正液不足?、尴礇芬翰蛔?/p>

操作部パネルに表示  
①濃度上限?、谠嚵纤?dāng)唷、坌U荒堋?br style="margin: 0px; padding: 0px;" /> ④ pH 調(diào)整液不足?、菪U翰蛔恪、尴礇芬翰蛔?/p>

外部出力

測(cè)定値出力:DC 4 ?20 mA またはDC 0 ?16 mA
(対數(shù)出力)(リニア出力はオプション)
警報(bào)出力:① 濃度上限 
   ?、?試料水?dāng)唷?br style="margin: 0px; padding: 0px;" />     ?、郏ㄐU荒?pH 調(diào)整液不足?
校正液不足?洗浄液不足)共通

測(cè)定値出力:DC 4 ?20 mA またはDC 0 ?16 mA
(対數(shù)出力)(リニア出力はオプション)
警報(bào)出力:① 濃度上限 
    ② 試料水?dāng)唷?br style="margin: 0px; padding: 0px;" />    ?、郏ㄐU荒?pH 調(diào)整液不足?
校正液不足?洗浄液不足)共通

設(shè)置條件

周囲溫度:0 ?40 ℃
   濕度:85 %以下

周囲溫度:0 ?40 ℃
   濕度:85 %以下

試料水條件

溫度:0 ?40 ℃
流量:0.5 ?3 L/min
SS :30 mg/L 以下(標(biāo)準(zhǔn)サンプリング裝置にて)

溫度:0 ?40 ℃
流量:0.5 ?3 L/min
SS :30 mg/L 以下(標(biāo)準(zhǔn)サンプリング裝置にて)

塗裝色

測(cè)定部:マンセル5 PB 3/9
操作部:マンセルN6

測(cè)定部:マンセル5 PB 3/9
操作部:マンセルN6

外形寸法

裝置本體:700 W × 500 D × 1500 H mm
サンプリング裝置:290 W × 400 D × 500 H mm

裝置本體:700 W × 500 D × 1500 H mm
サンプリング裝置:290 W × 400 D × 500 H mm

重量

約150 kg

約150 kg

 

 

外形寸法図?他(単位:mm)

外形寸法図(mm)
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