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自動(dòng)銨離子測(cè)量裝置AMNA-101

產(chǎn)品大圖
  • 自動(dòng)銨離子測(cè)量裝置AMNA-101
  • HORIBA堀場(chǎng)
  • AMNA-101
  • 日本
  • 電議

  • 更多詳細(xì)資料請(qǐng)來(lái)電咨詢！

產(chǎn)品詳細(xì)介紹

 

仕様

項(xiàng)目

仕様

  

形式

AMNA-101（連続測(cè)定法）

AMNA-102（間欠測(cè)定法）

測(cè)定範(fàn)囲

0.01 ?1.0、（0.03 以下は無(wú)目盛）0.1 ?10、0.5 ?50、
1 ?100、5 ?500、10 ?1000
●各レンジのいずれかをご指定ください。
●単位は、ppmNH4+ またはppmN/NH4+ のいずれか。

0.5 ?50、1 ?100、5 ?500、10 ?1000　
●各レンジのいずれかをご指定ください。
●単位は、ppmNH4+ またはppmN/NH4+ のいずれか。

測(cè)定方式

連続測(cè)定

間欠測(cè)定
測(cè)定周期：1、 2、4、6、8、12、24H、EXT.START のうち任意設(shè)定可能

再現(xiàn)性

フルスケール長(zhǎng)の± 3 ％
（ただし、0.1 ppmNH4+ 以上の標(biāo)準(zhǔn)液で一定溫度にて）

フルスケール長(zhǎng)の± 3 ％（標(biāo)準(zhǔn)液で一定溫度にて）

安定性

フルスケール長(zhǎng)の± 4 ％ /day
（ただし、0.1 ppm 以上の標(biāo)準(zhǔn)液で一定溫度にて）

フルスケール長(zhǎng)の± 4 ％ /day（標(biāo)準(zhǔn)液で一定溫度にて）

応答速度

90 ％応答：約5 分
（ただし、校正時(shí)1 ppm 以上の標(biāo)準(zhǔn)液にて、低濃度から高濃度へ1 decade 変化させた場(chǎng)合）

90 ％応答：約5 分
（ただし、校正時(shí)1 ppm 以上の標(biāo)準(zhǔn)液にて、低濃度から高濃度へ1 decade 変化させた場(chǎng)合）

自動(dòng)校正

校正方法：試料水濃度付近で1 點(diǎn)校正
校正周期：2、4、6、8、12、24H EXT.START のうち任意設(shè)定可能
校正時(shí)間：40 分間
校正時(shí)の指示：校正直前の測(cè)定値をホールド
校正液タンク：20 L
校正液補(bǔ)充周期：3 週間（ただし、校正周期12 時(shí)間において）

校正方法：試料水濃度付近で1 點(diǎn)校正
校正周期：2、4、6、8、12、24H EXT.START のうち任意設(shè)定可能
校正時(shí)間：1 時(shí)間
校正時(shí)の指示：校正直前の測(cè)定値をホールド
校正液タンク：20 L
校正液補(bǔ)充周期：3 週間（ただし、校正周期12 時(shí)間において）

自動(dòng)洗浄

洗浄方法：酸洗浄
洗浄周期：2、4、6、8、12、24H EXT.START のうち任意設(shè)定可能
洗浄時(shí)間：40 分間
洗浄時(shí)の指示：洗浄直前の測(cè)定値をホールド
洗浄液タンク：20 L
洗浄液補(bǔ)充周期：3 ヶ月（ただし、校正周期12 時(shí)間において）

洗浄方法：酸洗浄
洗浄周期：測(cè)定毎
洗浄時(shí)間：30 分
洗浄時(shí)の指示：洗浄直前の測(cè)定値をホールド
洗浄液タンク：20 L
洗浄液補(bǔ)充周期：2 週間（ただし、測(cè)定周期1 時(shí)間において）

pH 調(diào)整液

液組成：2 mol/L 水酸化カリウム
pH 調(diào)整液タンク：20 L
pH 調(diào)整液補(bǔ)充周期：3 週間

液組成：2 mol/L 水酸化カリウム
pH 調(diào)整液タンク：20 L
pH 調(diào)整液補(bǔ)充周期：1 ヶ月（ただし、測(cè)定周期1 時(shí)間において）

警報(bào)

操作部パネルに表示　　
①濃度上限?、谠嚵纤?dāng)唷、坌Ｕ荒堋?br style="margin: 0px; padding: 0px;" /> ④ pH 調(diào)整液不足　⑤校正液不足?、尴礇芬翰蛔?/p>

操作部パネルに表示　　
①濃度上限?、谠嚵纤?dāng)唷、坌Ｕ荒堋?br style="margin: 0px; padding: 0px;" /> ④ pH 調(diào)整液不足?、菪Ｕ翰蛔恪、尴礇芬翰蛔?/p>

外部出力

測(cè)定値出力：DC 4 ?20 mA またはDC 0 ?16 mA
（対數(shù)出力）（リニア出力はオプション）
警報(bào)出力：① 濃度上限　
   ?、?試料水?dāng)唷?br style="margin: 0px; padding: 0px;" />    　?、郏ㄐＵ荒?pH 調(diào)整液不足?
校正液不足?洗浄液不足）共通

測(cè)定値出力：DC 4 ?20 mA またはDC 0 ?16 mA
（対數(shù)出力）（リニア出力はオプション）
警報(bào)出力：① 濃度上限　
   　② 試料水?dāng)唷?br style="margin: 0px; padding: 0px;" />    ?、郏ㄐＵ荒?pH 調(diào)整液不足?
校正液不足?洗浄液不足）共通

設(shè)置條件

周囲溫度：0 ?40 ℃
  　濕度：85 ％以下

周囲溫度：0 ?40 ℃
  　濕度：85 ％以下

試料水條件

溫度：0 ?40 ℃
流量：0.5 ?3 L/min
SS ：30 mg/L 以下（標(biāo)準(zhǔn)サンプリング裝置にて）

溫度：0 ?40 ℃
流量：0.5 ?3 L/min
SS ：30 mg/L 以下（標(biāo)準(zhǔn)サンプリング裝置にて）

塗裝色

測(cè)定部：マンセル5 PB　3/9
操作部：マンセルN6

測(cè)定部：マンセル5 PB　3/9
操作部：マンセルN6

外形寸法

裝置本體：700 W × 500 D × 1500 H mm
サンプリング裝置：290 W × 400 D × 500 H mm

裝置本體：700 W × 500 D × 1500 H mm
サンプリング裝置：290 W × 400 D × 500 H mm

重量

約150 kg

約150 kg

 

 

外形寸法図?他（単位：mm）

外形寸法図(mm)
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